羲之，卻難量產中國曝光機精度逼近

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• China Reportedly Develops Lithography Machine With Precision Rivalling ASML’s High-NA EUV,【代妈应聘流程】機羲近 But Limited to Research Applications, Not Mass Production

（首圖來源：中國杭州人民政府）

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外媒報導，度逼代妈应聘公司

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